EUV

应用说明:EUV时代的光掩模技术

应用说明:EUV时代的光掩模技术

这个博客的老读者可能还记得,Photomasks是用来制造芯片的蓝图。光刻工艺将蚀刻在掩模上的图案印到硅片上,以定义晶体管、存储单元和线路——所有构成功能性器件的纳米级结构。随着行业采用一种名为极紫外光刻(简称EUV)的新技术,光刻技术预计将在未来几年内发生翻天覆地的变化。这一变化要求新一代的掩膜具有新的材料和工作原理。